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光刻胶在光刻工艺中的主要两个作用?

光刻胶印刷
光刻工艺

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光刻工艺作为半导造过程中的核心技术之一,对集成电路的性能、集成度和成本起着至关重要的作用。在整个半导造流程中,光刻工艺承担着将设计好的电路图案精确地转移到半导体晶圆表面的关键任务,就如同画家手中的画笔...