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半导体光刻技术原理是什么

半导体光刻技术原理
光刻工艺

半导体光刻技术原理

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光刻工艺作为半导造领域的核心技术之一,对于芯片的性能和集成度起着决定性作用。它是将芯片设计图案精确地转移到半导体衬底上的关键步骤,其原理涉及到复杂的光学、化学和物理过程。光刻技术的基本原理基于光学成像...