2025-10-02 阅读(3)

光刻技术在半导造领域占据着至关重要的地位，而光刻CDU（Critical Dimension Uniformity，关键尺寸均匀性）作为衡量光刻工艺精度和稳定性的关键指标，对于芯片制造的良率和性能有着...

2025-09-28 阅读(1)

光刻技术作为现代半导造的核心工艺之一，在微电子领域发挥着举足轻重的作用。而光刻 CDU（光刻接触式对准系统）作为光刻技术中的关键组件，更是直接影响着芯片制造的精度和效率。光刻技术是通过光掩模将电路图案...