2025-11-18 阅读(1)

光刻资讯中，光刻 OVL 十项补值的计算是一个关键且复杂的过程。它涉及到多个因素的综合考量，对于光刻工艺的精准控制和产品质量的提升具有重要意义。本文将深入探讨光刻 OVL 十项补值的计算方法及其在光刻...

2025-11-06 阅读(1)

光刻工艺是半导造中至关重要的一步，它涉及到将图案转移到硅片等基底上。而在光刻工艺中，HMDS（六甲基二硅胺烷）是一种常用的试剂，但其毒性问题备受关注。本文将深入探讨光刻工艺中 HMDS 的毒性及其相关...

2025-11-01 阅读(2)

光刻工艺是现代半导造中至关重要的一环，它通过光刻技术将芯片设计图案精确地转移到半导体晶圆表面。在光刻工艺中，HMDS（六甲基二硅氮烷）是一种常用的化学试剂，然而它对人体存在诸多潜在危害。HMDS是一种...

2025-10-02 阅读(3)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于集成电路的性能和制造精度起着决定性作用。在光刻工艺中，关键尺寸均匀性（Critical Dimension Uniformity，简称CDU）是一个至关重要的参...