2025-11-05 阅读(3)

光刻工艺是半导造中至关重要的环节，它决定了芯片的精细程度和性能。在光刻工艺中，HMDS（六甲基二硅胺烷）的作用不可忽视，其厚度的控制对于光刻工艺的成功与否有着直接的影响。本文将深入探讨光刻工艺中 HM...

2025-10-02 阅读(3)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于集成电路的性能和制造精度起着决定性作用。在光刻工艺中，关键尺寸均匀性（Critical Dimension Uniformity，简称CDU）是一个至关重要的参...