2025-11-17 阅读(1)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于芯片的性能、集成度等起着决定性作用。在光刻领域，光刻oVl（Overlay，套刻精度）数据的分析至关重要。光刻oVl数据分析能够帮助工程师及时发现光刻过程中存在...

2025-10-02 阅读(3)

光刻资讯中，光刻 CDU（Critical Dimension Uniformity）即关键尺寸均匀性，是光刻工艺中的一个重要指标。它直接影响着芯片的性能和良率，对于半导造来说至关重要。本文将详细介绍...

2025-10-02 阅读(3)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于集成电路的性能和制造精度起着决定性作用。在光刻工艺中，关键尺寸均匀性（Critical Dimension Uniformity，简称CDU）是一个至关重要的参...