2025-12-07 阅读(0)

光刻技术作为半导造中的核心工艺，在集成电路的发展历程中起到了至关重要的作用。随着集成电路特征尺寸的不断缩小，对光刻工艺的精度和可靠性要求也日益提高。在光刻过程中，有一个关键的概念——光刻DOF win...

2025-11-18 阅读(1)

光刻资讯中，光刻 OVL 十项补值的计算是一个关键且复杂的过程。它涉及到多个因素的综合考量，对于光刻工艺的精准控制和产品质量的提升具有重要意义。本文将深入探讨光刻 OVL 十项补值的计算方法及其在光刻...

2025-11-06 阅读(1)

光刻工艺是现代半导造中极为关键的一环，它决定了芯片上电路的精细程度和性能。其中，HMDS（六甲基二硅氮烷）在光刻工艺中扮演着重要角色。在光刻工艺开始前，晶圆表面需要进行预处理，以确保光刻胶能够良好地附...

2025-10-02 阅读(3)

光刻资讯中，光刻 CDU（Critical Dimension Uniformity）即关键尺寸均匀性，是光刻工艺中的一个重要指标。它直接影响着芯片的性能和良率，对于半导造来说至关重要。本文将详细介绍...

2025-10-02 阅读(3)

光刻技术在半导造领域占据着至关重要的地位，而光刻CDU（Critical Dimension Uniformity，关键尺寸均匀性）作为衡量光刻工艺精度和稳定性的关键指标，对于芯片制造的良率和性能有着...

2025-10-02 阅读(3)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于集成电路的性能和制造精度起着决定性作用。在光刻工艺中，关键尺寸均匀性（Critical Dimension Uniformity，简称CDU）是一个至关重要的参...