2025-11-08 阅读(1)

光刻技术作为半导造领域的核心工艺之一，对于芯片性能和制造效率起着至关重要的作用。光刻PEB（Post Exposure Bake，曝光后烘焙）工艺则是光刻流程中的关键环节，它直接影响着光刻图案的质量和...

2025-10-02 阅读(3)

光刻设备作为半导造领域的核心装备，对于芯片制造起着至关重要的作用。而光刻工艺实验仪则是深入研究光刻技术、探索工艺优化的重要工具。光刻设备的原理基于光学投影技术，通过精确控制光线的传播路径和强度分布，将...

2025-09-28 阅读(0)

光刻设备作为半导造领域的核心装备，其重要性不言而喻。而光刻设备中的真空腔体更是关键部件，它为光刻过程提供了至关重要的环境条件。光刻设备是将芯片设计图案精确转移到半导体晶圆上的关键工具。在现代半导造工艺...