2025-11-09 阅读(4)

光刻工艺作为半导造领域的核心技术，对于芯片性能与集成度起着决定性作用。其中，数值孔径是光刻工艺中一个极为关键的参数，它对光刻的分辨率、焦深以及曝光能量等多个方面都有着深远影响。数值孔径（NA）是指光学...

2025-11-08 阅读(1)

光刻技术作为半导造领域的核心工艺之一，对于芯片性能和制造效率起着至关重要的作用。光刻PEB（Post Exposure Bake，曝光后烘焙）工艺则是光刻流程中的关键环节，它直接影响着光刻图案的质量和...

2025-11-07 阅读(1)

光刻工艺是半导造中至关重要的一步，它能够精确地将图案转移到硅片等基板上。而在光刻工艺中，Barrier Coat（简称 Barc）的使用具有重要意义，它在提高光刻精度、减少缺陷等方面发挥着关键作用。光...

2025-11-06 阅读(1)

光刻工艺是现代半导造中极为关键的一环，它决定了芯片上电路的精细程度和性能。其中，HMDS（六甲基二硅氮烷）在光刻工艺中扮演着重要角色。在光刻工艺开始前，晶圆表面需要进行预处理，以确保光刻胶能够良好地附...