光刻工艺 光刻工艺中HMDS反应公式 2025-11-06 阅读(1) 光刻工艺是现代半导造中极为关键的一环,它决定了芯片上电路的精细程度和性能。其中,HMDS(六甲基二硅氮烷)在光刻工艺中扮演着重要角色。在光刻工艺开始前,晶圆表面需要进行预处理,以确保光刻胶能够良好地附...