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光刻过程中的光化学反应

光刻工艺中HMDS反应公式
光刻工艺

光刻工艺中HMDS反应公式

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光刻工艺是现代半导造中极为关键的一环,它决定了芯片上电路的精细程度和性能。其中,HMDS(六甲基二硅氮烷)在光刻工艺中扮演着重要角色。在光刻工艺开始前,晶圆表面需要进行预处理,以确保光刻胶能够良好地附...