2025-11-08 阅读(1)

光刻技术作为半导造领域的核心工艺之一，对于芯片性能和制造效率起着至关重要的作用。光刻PEB（Post Exposure Bake，曝光后烘焙）工艺则是光刻流程中的关键环节，它直接影响着光刻图案的质量和...

2025-10-28 阅读(2)

光刻工艺是半导造过程中至关重要的一环，它如同精细的雕刻师，在半导体晶圆上绘制出微小而复杂的电路图案。光刻技术的精度直接决定了芯片的性能和集成度，是推动半导体产业不断发展进步的核心力量。从早期的微米级到...